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等离子除臭设备

日期：2011-12-16 浏览：

等离子除臭设备

等离子除臭设备处理臭味及挥发性有机物的主要过程是：将废气引入净化区的同时，电器控制元件通过微波传输在净化区放电，使气体电离，在净化区内产生大量等离子体。因此，等离子除臭设备主要由两大部分组成：

1）电器控制部分由大规模集成电路、集成模块、半导体元器件组成，产生加速，发射，调控，自动保护电路。

2）净化区部分由极棒、钼丝及附件组成等离子方阵构成谐振区，分解区，氧化区，收集区。装置由不锈钢材、铜材、钼材、环氧树脂等加工而成。

一、主要技术标准：

使用电压：220V；
工作电压：80V—250V；
工作频率：30GHZ—300GHZ；
耗电量：处理1000m3/h,耗电0.25千瓦；
工作温度：250℃以下，-50℃以上；
环境温度：-50℃～50℃；
工作湿度：适应饱和水雾环境；
净化率：75-95%（不同成分的气体去除率有所不同）；
灭菌率：100％；
规格：1800mm×500mm×3300mm；或根据处理的气量、浓度及场地情况设计。

二、去除原理
等离子体是物质存在的第四形态。它是由电子、离子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等组成。等离子体是电离度大于0.1%，且其正负电荷相等的电离气体。电子和正离子的电荷数相等,整体表现出电中性。

等离子体净化技术的主要机理是：在外加电场的作用下，电极空间里的电子获得能量后加速运动，以每秒钟300万次至3000万次的速度去撞击异味气体分子，当电子的能量与异味气体分子的某一化学键键能相同或略大时，发生非弹性碰撞，电子将大部分动能转化为污染物分子的内能，从而引发了使其发生激发、离解或电离等一系列复杂的物理、化学反应，使得产生臭味的基团化学键断裂，再经过多级净化而达到除臭目的。

其主要过程可通过以下反应式表达：（XY-污染物分子，e-电子）

1）激发： e XY —— XY* e

2）中性离解： e XY —— X Y e

3）直接离子化：e XY —— XY2e

4）离子化离解：e XY —— X Y2e，Y X 2e

5）形成负离子：e XY —— XY^- （电子吸附）

e XY —— XY^-（离解吸附）

中性离解和离子化离解产生大量带有未成对电子的中性基团，使等离子体具有活泼的化学反应性。

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